Танталовый лист 5х130х100 мм ТВЧ в Майкопе

Коррозионная стойкость танталового листа марки ТВЧ в азотной кислоте сохраняется на высоком уровне даже при повышении концентрации до 98%. Тантал пассивируется в таких средах, образуя защитную оксидную пленку. Он остается стабильным и подходит для работы с концентрированной азотной кислотой.

Танталовый лист, включая марку ТВ-10, не обладает стойкостью к фтористоводородной кислоте, даже при низких концентрациях (5%). Фтористоводородная кислота активно растворяет защитную оксидную пленку тантала, приводя к его быстрому разрушению. Применение тантала в таких средах не рекомендовано.

Для концентрированной серной кислоты при температурах до 200°C оптимальны листы марок ТВЧ и ТаВ. ТВЧ проявляет высокую стойкость к окисляющим кислотам, а ТаВ, с добавлением ниобия, может демонстрировать улучшенную устойчивость к некоторым типам серной кислоты, особенно при наличии примесей.

Танталовый лист марки ТВ-10, легированный вольфрамом, обычно лучше выдерживает термические удары по сравнению с чистым танталом (ТВЧ). Повышенная прочность и меньшая склонность к деформации при высоких температурах способствуют его стабильности при резких изменениях температуры.

Для оценки качества сварных швов танталового листа применяют методы неразрушающего контроля: рентгенографический контроль, ультразвуковая дефектоскопия, капиллярный или магнитопорошковый контроль (для поверхностных дефектов), а также визуальный осмотр. Эти методы позволяют выявить внутренние и поверхностные дефекты.

Танталовый лист марки ТВ-5, содержащий 5% вольфрама, дает преимущества при изготовлении высокоточных деталей благодаря своей повышенной прочности и твердости по сравнению с чистым танталом. Это обеспечивает лучшую стабильность размеров после механической обработки и формовки, минимизируя деформации.

Теплопроводность танталового листа при комнатной температуре (20°C) составляет приблизительно 57.5 Вт/(м·К). Это относительно высокая теплопроводность, что делает тантал пригодным для использования в теплообменном оборудовании.